隨著電子信息產(chǎn)業(yè)的飛速發(fā)展，高技術材料逐漸由塊體向薄膜轉移，鍍膜器件隨之快速發(fā)展起來。濺射法是制備薄膜材料的主要技術之一，濺射沉積薄膜的源材料即為靶材，材料化學成分含有貴金屬元素的靶材統(tǒng)稱為貴金屬靶材。貴金屬靶材是一種具有高附加價值的特種電子材料，在信息存儲產(chǎn)業(yè)、微電子產(chǎn)業(yè)、新能源產(chǎn)業(yè)等技術領域，都需要通過濺射技術并采用不同的靶材制備出各種不同材質(zhì)的薄膜，來達到產(chǎn)品的磁、電、光、壓電等性能要求”。貴金屬靶材市場規(guī)模日益擴大并已蓬勃發(fā)展成一個專業(yè)化的朝陽產(chǎn)業(yè)。
濺射鍍膜技術、濺射用靶材及其制備技術目前多集中在國內(nèi)外的靶材公司，如德國賀利氏、中國臺灣光洋、日礦金屬、田中貴金屬等。它們引領著國際靶材技術方向，也占據(jù)著全球大部分靶材市場。
濺射靶材在中國是一個較新的行業(yè)。近年來，中國在濺射靶材的技術及市場方面取得了長足進步，但與國際先進水平相比，仍存在較大的差距，還沒有一家專業(yè)化并有一定規(guī)模的靶材公司在全球高端靶材市場占有一席之地。隨著市場的快速發(fā)展，對靶材品種要求越來越多,更新?lián)Q代越來越快。加強研發(fā)制備靶材新工藝，同時解決尺寸、平整度、純度、密度、雜質(zhì)氮/氧/碳/硫(N/O/C/S)含量、晶粒尺寸與缺陷控制、表面粗糙度、電阻值、異物含量、導磁率等產(chǎn)品質(zhì)量問題，任重而道遠。
